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一种利用一准分子激光再结晶工艺来制作一多晶硅薄膜的方法，该方法包含有下列步骤：　　　　提供一衬底，该衬底表面定义有一第一区域、一第二区域围绕于该第一区域，以及一第三区域；　　　　于该衬底上方形成一非晶硅薄膜；　　　　进行一第一光刻暨蚀刻工艺...
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