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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:3205200
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电容元件(26)具有:在设置在半导体衬底(10)的第三层间绝缘膜(22)上的开口部(22a)的底面和壁面上形成的由贵重金属的氧化物、氮化物或氮氧化物的多晶体构成的下部电极(23)、形成在该下部电极(23)之上的由介质构成的电容绝缘膜(24)...
该专利属于松下电器产业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过松下电器产业株式会社授权不得商用。
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