专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
联华电子股份有限公司
>
消除晶片边缘剥离的方法技术
>技术资料下载
下载消除晶片边缘剥离的方法的技术资料
文档序号:3203520
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种消除晶片边缘剥离的方法,包含: 形成一薄膜于晶片上; 形成一图形化金属结构于晶片上; 平坦化晶片表面以移除晶片上多余的该图形化金属结构,其中该平坦化步骤暴露出晶片边缘的部份该薄膜;及 移除暴露出的部份该薄膜。...
该专利属于联华电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。