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本发明公开了一种采用脉冲激光沉积工艺制备大面积超导薄膜的方法和装置，首先用真空机组将真空室内抽真空，然后向真空室内充入高纯度氧气再启动旋转加热器使基片升温并保持该温度直到薄膜沉积完成；再打开激光扫描控制系统，使激光脉冲打到靶面上靶材升华形成...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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