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芜湖启迪半导体有限公司
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隧穿增强型垂直结构的HEMT器件制造技术
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下载隧穿增强型垂直结构的HEMT器件的技术资料
文档序号:32027987
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本发明提出了隧穿增强型垂直结构的HEMT器件。该HEMT器件包括:衬底;缓冲层,设置在衬底的一个表面上;电流阻挡层,设置在缓冲层远离衬底的表面;沟道层,覆盖防扩散层、电流阻挡层和部分的缓冲层;势垒层,设置在沟道层远离衬底的表面;防扩散层,设...
该专利属于芜湖启迪半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过芜湖启迪半导体有限公司授权不得商用。
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