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一种金属配线的多步干法刻蚀方法，该金属配线的断面具有多层膜结构，包括两层氮化钛／钛层，其氮化钛／钛层的顶部包覆有氮氧化硅／氧化硅层，底部包覆有下地氧化膜，其工艺步骤为：　　　　　氮氧化硅／氧化硅主刻蚀，在一定的压力、源功率、偏置功率及反应气...
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