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一种在亚微米集成电路的硅片上形成钛硅化合物的方法，其步骤为：　　　　第一步，在硅片上进行积淀前的表面清洗，以利于钛与硅发生反应；　　　　第二步，在清洗过的硅片表面进行钛的积淀，形成一层钛薄膜层；　　　　第三步，在钛薄膜的表面进一步积淀一定厚...
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