温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种在线优化抛光压力的方法，包括：获取基准抛光曲线，所述基准抛光曲线为基准抛光去除率随抛光位置的变化曲线；根据基准抛光曲线获取第一基准归一化系数B1至第N基准归一化系数B
...
该专利属于北京烁科精微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京烁科精微电子装备有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。