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本发明涉及一种用于从衬底表面选择性去除材料以形成凹穴的方法，其包括下列步骤：按所需选择性去除的要求将掩模施加到衬底表面，对衬底进行干蚀刻，其中应用金属，优选铝作为掩模材料。可将能量感应耦合进等离子体中。...
该专利属于珀金埃尔默光电子两合公司所有，仅供学习研究参考，未经过珀金埃尔默光电子两合公司授权不得商用。

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