温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种化学机械抛光系统中抛光垫与抛光盘之间的气泡的监测方法，包括步骤：声波检测装置发射进入抛光垫上晶片运行轨迹处的声波；接收从抛光垫上晶片运行轨迹处返回的回波；分析回波延迟，监测是否出现气泡和出现的气泡大小；显示监测结果；根据监测结...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。