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薄膜叠层体、采用该薄膜叠层体的电子装置、及调节器以及调节器的制造方法制造方法及图纸
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下载薄膜叠层体、采用该薄膜叠层体的电子装置、及调节器以及调节器的制造方法的技术资料
文档序号:3199428
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一种薄膜叠层体,其特征在于,由单晶基板、中间层和导电层构成; 所述单晶基板由硅或镓-砷构成; 所述中间层由在所述单晶基板上通过外延生长形成的铝酸镁尖晶石构成; 所述导电层由在所述中间层上通过外延生长形成的铂族元素构成; ...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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