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半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
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文档序号:3199421
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本发明提供一种介电常数低并且机械强度大的绝缘膜。由含有二氧化硅衍生物与表面活性剂的前体溶液形成周期性的自聚体。之后,将表面活性剂通过完全热分解除去,从而形成具备含有以与基板表面平行的方式取向的层状或圆柱状的空孔的周期性多孔结构的无机绝缘膜。...
该专利属于罗姆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗姆股份有限公司授权不得商用。
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