温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明的目的是提供一种既能保持同一曝光掩模中对准标记之间保持最小容许间距，又能缩小对象体的对准标记所需要的区域的曝光掩模的对位方法，及使用该方法的薄膜元件基板的制造方法。本发明提供：使用形成对准标记的多个全息照相掩模，对成为形成对准标记曝光...
该专利属于精工爱普生株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过精工爱普生株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。