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一种制作纳米级晶粒的方法，其可应用于内存器件和太阳能电池的制程中。该制作纳米级晶粒的方法至少包括以下步骤：首先，提供基板，并在基板上形成薄膜，薄膜的厚度等于或小于约５０＊。接着，对薄膜施以激光退火处理，且该激光的波长等于或小于约５００ｎｍ，...
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