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提供一种用于保持晶片的设备和一种用于湿浸式光刻的方法。该设备包括晶片夹具，该夹具具有中心圆形真空压盘、外部区域和在真空压盘中心上的圆形凹槽，真空压盘的顶表面凹进在外部区域的顶表面之下，凹槽的底表面凹进在真空压盘的顶表面之下；在凹槽的底表面中...
该专利属于国际商业机器公司所有，仅供学习研究参考，未经过国际商业机器公司授权不得商用。

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