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一种用于涂覆光刻胶图案的组合物，其包括水及包含由式１表示的重复单元的化合物。将该组合物涂覆于先前已形成的图案上，藉此有效地减小光刻胶图案的间隔或接触孔的尺寸。使用该组合物形成光刻胶图案的方法有用地应用于所有用于形成精细图案的半导体工艺中。其...
该专利属于海力士半导体有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过海力士半导体有限公司授权不得商用。

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