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本实用新型公开了一种适用于真空镀膜稳定性好的回转机构，涉及真空镀膜技术领域，为解决现有的回转机构通常悬置于镀膜设备内部，导致安装的不够稳定，长时间使用后其旋转时稳定性较差的问题。所述转盘的上方安装有支撑杆，所述支撑杆的上方安装有保持架，所述...
该专利属于莱糸真空科技（常州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过莱糸真空科技（常州）有限公司授权不得商用。

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