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本发明是关于一种薄膜晶体管及其制造方法，该制造方法包括下列步骤：形成栅极于基板上；依序形成绝缘层、半导体层、欧姆接触层及金属层覆盖于栅极及基板上；再形成图案化光致抗蚀剂层于栅极与栅极一侧上方的金属层上，且图案化光致抗蚀剂层具有第一部分、第二...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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