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一种可以防止通过由例如萤石的立方系晶体材料形成的透光部件的线性偏振光的偏振状态的改变的照射光学系统。一种照射光学系统，包括，光源单元（１），用于用来自光源单元的光提供线性偏振光来照射将要照射的表面（Ｍ、Ｗ）。该系统包括被设置在光源单元和将要...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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