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提供一种在同一多室内连续形成ＥＬ层、阴极、阻挡层和覆盖层的方法。通过使用同一膜沉积方法以形成ＥＬ层和覆盖层，如图１Ａ所示，ＥＬ层、阴极、阻挡层和覆盖层可以在同一多室内顺次形成。因此，如图１Ｂ所示，可以形成ＥＬ元件的密闭结构。...
该专利属于株式会社半导体能源研究所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社半导体能源研究所授权不得商用。

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