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本发明揭示了以极高速率在连续移动的金属带基材上沉积双轴织构化膜的方法。这些方法包括：沉积流以相对于基材法线约为５°至８０°的斜入射角在基材上沉积膜，同时用离子束以沿所述膜的最佳离子织构方向或第二最佳离子织构方向设置的离子束入射角进行轰击，从...
该专利属于美国超能公司所有，仅供学习研究参考，未经过美国超能公司授权不得商用。

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