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根据本发明的一个方面，提供一种用于抛光在夹层绝缘材料上的阻挡层金属材料的抛光液体，所述抛光液体具有２．０到６．０的ｐＨ值，并且包含含有下式（１）所示化合物的水溶液，以及含有氧化硅并且被分散在所述水溶液中的抛光粒子：Ｒ↑［１］－（ＣＨ↓［２］...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

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