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形成于碳化硅基板上的氮化镓膜的剥离方法及使用该方法制造的装置制造方法及图纸
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下载形成于碳化硅基板上的氮化镓膜的剥离方法及使用该方法制造的装置的技术资料
文档序号:3187351
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根据本发明的用于制造高光提取光子器件的方法的一实施例包括:在基板上生长剥离层以及在该剥离层上生长外延半导体器件结构,使得该剥离层夹于该器件结构与基板之间。该外延半导体结构包含适用于响应于偏压而发光的发射极。将该器件结构、剥离层及基板用倒装芯...
该专利属于美商克立股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过美商克立股份有限公司授权不得商用。
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