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本发明公开了一种钽阻挡层用化学机械抛光浆料，其包括研磨颗粒、有机膦酸、四氮唑类化合物和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以防止金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，降低研磨颗粒的含量，在不同金属与氧化物之间可获得合适的抛光选择性。...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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