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一种基底处理设备，包括用于抛光基底边缘部分的第一和第二抛光单元（７０Ａ，７０Ｂ），用于清洁基底（Ｗ）的第一级清洁单元（１００），用于干燥已经在第一级清洁单元（１００）中清洁的基底（Ｗ）的第二级清洁和干燥单元（１１０），和用于测量基底（Ｗ）边...
该专利属于株式会社荏原制作所所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社荏原制作所授权不得商用。

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