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本发明提供了一种用来抛光半导体基板的复合化学机械抛光垫，该抛光垫包括：具有第一可压缩性的抛光层；具有第二可压缩性的中间层，所述第二可压缩性小于第一可压缩性；具有第三可压缩性的底层，所述第三可压缩性大于第二可压缩性，小于第一可压缩性；所述抛光...
该专利属于罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司授权不得商用。

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