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本发明涉及的是一种半导体材料技术领域的量子逻辑器件的隧穿二极管制备方法。包括如下步骤：①用气相外延方法生长单晶硅薄膜和用等离子增强化学气相沉积方法生长硅量子点薄膜；②利用半导体量子输运方法对硅量子点共振隧穿二极管器件的隧穿电流特性进行模拟，...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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