温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

描述了一种用于集成电路的金属网结构。在一个实施例中，半导体集成电路包括第一区域，其包括，例如具有一个或多个有源半导体设备的设备层。该电路也包括第二区域，其包括一个包含电路导线的金属化层。该电路进一步包括在第一和第二区域之间插入的金属网层，其...
该专利属于硅谷实验室公司所有，仅供学习研究参考，未经过硅谷实验室公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。