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图案形成方法和灰度掩模制造方法技术
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下载图案形成方法和灰度掩模制造方法的技术资料
文档序号:3183778
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一种灰度掩模,具有遮光部分、光透射部分和灰度部分。其制造方法包括:准备掩模坯料,其中在光透射的衬底上形成含有金属与硅的薄膜和基于无机物的蚀刻掩模层,其中每一个都具有对另一个的蚀刻的抗蚀性;在所述基于无机物的蚀刻掩模层上形成第一抗蚀图案;使用...
该专利属于HOYA株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过HOYA株式会社授权不得商用。
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