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本发明公开了一种对向靶磁控溅射无损伤薄膜沉积系统，包括衬底和两个对向靶，两个对向靶对称布置于衬底前方，并分别与衬底形成正、负250~300的夹角，在对向靶与衬底之间插入了一个网孔状金属板作为阳极，衬底两侧设置有磁场。本发明可以在室温下采用磁...
该专利属于浙江师范大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江师范大学授权不得商用。

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