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本发明提供一种蚀刻铬层与形成光罩的方法。在一个实施例中，蚀刻铬的方法包含：在制程反应室中提供具有铬层的膜堆叠；图案化位于膜堆叠上的光阻层；沉积保角形保护层于具图案的光阻层上；蚀刻保角形保护层以使铬层通过具图案的光阻层而暴露；以及蚀刻铬层。本...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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