下载钽氮化物膜的形成方法的技术资料

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钽氮化物膜的形成方法,其特征在于,在真空室内,导入含有在钽元素(Ta)的周围配位N=(R,R′)(R及R′表示碳原子数1-6的烷基,各自可以是相同的基团,也可以是不同的基团)的配合物的原料气体以及含氧原子的气体,在基板上形成含有TaO↓[x...
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