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一种磁性多层膜的制造方法，包括：在衬底上形成第１磁性层的第１磁性层形成工序；在所述第１磁性层上形成非磁性层的非磁性层形成工序；在所述非磁性层上形成第２磁性层的第２磁性层形成工序；其特征在于，该方法还包括等离子体处理工序，在所述非磁性层形成工...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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