温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种涉及半导体微电子和光电子器件中纳米硅薄膜的制备方法，采用射频感应耦合等离子体系统设备（ＩＣＰ），利用ＲＦ（射频）感应耦合等离子体化学气相沉淀方法，在单晶硅片或绝缘层衬底上快速生长一层微结构可调、晶粒大小均匀的纳米硅薄膜，从而形成性能良好...
该专利属于苏州科技学院所有，仅供学习研究参考，未经过苏州科技学院授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。