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本发明公开了一种掩膜版，包括对于曝光光线具有透光性的平板，所述平板上形成了对于曝光光线具有遮光性的可印刷的几何图形，所述几何图形中包括至少一个孤立图形，所述孤立图形在沿Ｘ轴和／或Ｙ轴方向上，在缺陷检测范围内，没有其他几何图形或者只有周期性重...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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