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半导体器件制造技术
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文档序号:3175370
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本发明公开了一种具有优良长期可靠性的半导体器件,其缓和布置在最外部处的开关结构中的电流集中。该半导体器件包括最外部开关结构和重复部分开关结构,该最外部开关结构和重复部分开关结构具有:异质半导体区,由带隙宽度与漂移区的带隙宽度不同的多晶硅形成...
该专利属于日产自动车株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过日产自动车株式会社授权不得商用。
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