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本发明是一种低电阻、高透光和低损耗的复合膜层及其制备方法，该复合膜层是在衬底上由单膜叠加而成，所述单膜从下至上依次为介质层/金属层/介质层构成的三层基元、多孔过渡层、透明导电层。该复合膜层利用磁控溅射制备方法和膜层后处理方法进行制备，通过调...
该专利属于中国航发北京航空材料研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国航发北京航空材料研究院授权不得商用。

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