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一种形成光刻胶层的方法，包括下列步骤：将晶圆放在加热盘上在１８０至２５０℃下进行烘烤３０至８０ｓ；将晶圆在３０至１２０℃下缓冲冷却１５至６０ｓ时间；将晶圆放置在快速冷却盘上，快速冷却３０至６０ｓ时间；在晶圆上形成有机底部防反射层；在有机底部...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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