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本发明提供了一种经硼先驱薄膜实现二硼化镁超导薄膜布图布线方法及装置，它在硼先驱薄膜上做ＰＩ屏蔽膜，经涂覆ＰＩ膜、预固化、匀光刻胶膜、腐蚀ＰＩ膜、ＰＩ膜固化热处理及腐蚀硼薄膜的处理后得到图形转移到硼薄膜上的样品，该样品再和少量的镁放入密封的钽...
该专利属于贵州大学所有，仅供学习研究参考，未经过贵州大学授权不得商用。

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