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使用原子层沉积（ＡＬＤ）形成导电性氮化钛层会产生用于多种电子装置中的可靠结构。通过使用例如ＴＤＥＡＴ等含有钛的前体化学品，随后使用氨与一氧化碳的混合物或单独使用一氧化碳，借助原子层沉积将氮化钛沉积到衬底表面上，并进行重复以形成连续沉积的Ｔｉ...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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