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掺杂极性层及并入有掺杂极性层的半导体装置制造方法及图纸
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下载掺杂极性层及并入有掺杂极性层的半导体装置的技术资料
文档序号:31733892
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所公开的技术大体上涉及铁电材料及半导体装置,且更特定来说,涉及并入有掺杂极性材料的半导体存储器装置。在一个方面中,一种半导体装置包括电容器,所述电容器又包括极性层,所述极性层包括掺杂有掺杂剂的结晶基底极性材料。所述基底极性材料包含一或多个金...
该专利属于开普勒计算公司所有,仅供学习研究参考,未经过开普勒计算公司授权不得商用。
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