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用于控制流到处理腔室的气流的方法和装置制造方法及图纸
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文档序号:3172886
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本发明提供一种用于将气体输送到半导体处理系统的方法和装置。在一个实施方式中,用于将气体输送到半导体处理系统的装置包括具有入口和出口的多个气体输入和输出管道。连接管道耦接各对气体输入和气体输出管道。连接阀配置为控制经过各个连接管道的流量。气体...
该专利属于应用材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。
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