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电子器件被形成在通过多个沉积容器逐渐形成的衬底上。每一个沉积容器都包括沉积材料源，并至少具有两个与之相关的阴影掩膜。这两个掩膜中的每一个交替地定位在对应沉积容器内，以通过在掩膜定位中的孔，将沉积材料图案成形到衬底上，并定位在邻近的清洗容器中...
该专利属于阿德文泰克全球有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过阿德文泰克全球有限公司授权不得商用。

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