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用于高迁移率平面和多栅极MOSFET的混合衬底技术制造技术
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下载用于高迁移率平面和多栅极MOSFET的混合衬底技术的技术资料
文档序号:3170414
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一种混合衬底,其具有高迁移率表面以用于平面和/或多栅极金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。混合衬底具有优选用于n-型器件的第一表面部分,和优选用于p-型器件的第二表面部分。由于混合衬底的每个半导体层中的适当表面和晶片平面取向,器件...
该专利属于国际商业机器公司所有,仅供学习研究参考,未经过国际商业机器公司授权不得商用。
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