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本发明的实施方式提供一种用于沉积含钨材料的改进工艺。该工艺应用浸泡工艺和气相沉积工艺，诸如原子层沉积（ＡＬＤ）以提供具有显著改善表面均匀性以及产量的含钨材料。在一个实施方式中，提供一种用于在衬底上形成含钨材料的方法，该方法包括在工艺腔室内放...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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