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本发明提供了一种硅终端金刚石场效应晶体管及其制备方法,属于场效应晶体管器件技术领域,制备方法包括在金刚石衬底的上表面形成氢终端;在氢终端的上表面形成源极和漏极;在源极的上表面、漏极的上表面、源极和漏极之间的氢终端的上表面形成钝化介质层;去除...该专利属于中国电子科技集团公司第十三研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国电子科技集团公司第十三研究所授权不得商用。
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本发明提供了一种硅终端金刚石场效应晶体管及其制备方法,属于场效应晶体管器件技术领域,制备方法包括在金刚石衬底的上表面形成氢终端;在氢终端的上表面形成源极和漏极;在源极的上表面、漏极的上表面、源极和漏极之间的氢终端的上表面形成钝化介质层;去除...