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一种光刻胶的去除方法，包括：提供硫酸溶液；向所述硫酸溶液中周期性注入双氧水，形成含有硫酸和双氧水的清洗液；将所述清洗液喷洒到半导体衬底的光刻胶上，将该光刻胶去除。该方法能够延长清洗液的使用寿命。...
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