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本发明公开一种反射式辐射供冷系统，包括温度设定系统、温度监控系统、控制系统和辐射制冷机构，温度监控系统包括温度传感器和红外测温仪，反射罩开口向下呈半球形，反射罩下方均匀分布有多组弧形罩且弧形罩下表面涂布有辐射反射膜，多组弧形罩下方设有制冷机...
该专利属于嘉兴学院所有，仅供学习研究参考，未经过嘉兴学院授权不得商用。

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