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本发明公开了一种低黑度聚酰亚胺遮光膜及其制备方法,属于聚酰亚胺材料技术领域。本发明所述的低黑度聚酰亚胺遮光膜采用包括但不限于以下重量配比的组分制备而成:聚酰胺酸树脂100、炭黑2~4、消光粉3~10、钛白粉8~20、有机硅光扩散剂2~8、聚...该专利属于桂林电器科学研究院有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过桂林电器科学研究院有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种低黑度聚酰亚胺遮光膜及其制备方法,属于聚酰亚胺材料技术领域。本发明所述的低黑度聚酰亚胺遮光膜采用包括但不限于以下重量配比的组分制备而成:聚酰胺酸树脂100、炭黑2~4、消光粉3~10、钛白粉8~20、有机硅光扩散剂2~8、聚...