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提供用于离子注入器的离子源，包括：（ｉ）升华器（５２），它具有接收要升华的源材料（６８）和升华所述源材料的腔室（６６）；（ｉｉ）气体注入器（１０４），其向腔室（６６）注入气体；（ｉｉｉ）离子化室（５８），其用于离子化升华的源材料，所述离子化...
该专利属于艾克塞利斯技术公司所有，仅供学习研究参考，未经过艾克塞利斯技术公司授权不得商用。

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